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自從收到美國升級華為禁令的消息，國產晶片行業被推到風尖浪口，而且這段時間裡不斷傳出關於國產晶片的負面消息。確實，華為目前正面臨著晶片斷供的危機，而中x芯國際、聯發科等國產晶片巨頭愛莫能助，很多人都在為華為的困境揪心。
至於國產晶片企業為什麼不能對華為伸出援助之手，相信大家已經有所了解。總結出來無非就是，國產晶片技不如人，不能擺脫對美國技術的依賴。眾所周知，光刻機一直是我國半導體技術的痛點，想要制造出高端晶片就離不開高端光刻機，ASML光刻機最先進的工藝已經達到5nm，然而上海微電子的國產光刻機技術還停留在90nm，此前傳聞即將面世的28nm工藝遲遲未能夠落地，可見國產光刻機與ASML的差距。
在美國處處打壓之下，國產晶片技術發展速度較為緩慢。好在我國並沒有放棄光刻機自研的道路，功夫不負有心人，我國光刻機終於也傳來了一次又一次捷報。
先是上個月北京大學教授團隊研發出碳奈米晶體管材料，能夠代替高純度的矽晶片，對於晶片制作工藝較為落後以及缺乏高端光刻機設備的國產晶片行業來說，這個半導體新型材料的出現無疑是一大突破。更值得關註的是，6月24日上交所正式受理了北京華卓精科科技股份有限公司科創板上市申請，這個公司打破了ASML公司技術壟斷之一，是全球第二家擁有雙工件臺核心技術的企業。
想要打破ASML的光刻機壟斷，歸根結底還是要實現技術突破，華卓精科實現光刻機雙工件臺核心技術的突破，無疑是國產晶片企業崛起的一大好消息。而這個技術研發成功背後最大的功臣，是清華大學教授帶領的團隊。
業界人士稱，該技術在上海微電子自主研發65nm至28nm光刻機過程中發揮著重要作用。此前日本尼康社長稱，光刻機雙工件臺的技術極為龐雜，中國不可能拿下這項技術。不過在清華教授可朱煜的帶領下，研發團隊用5年時間完成了別人口中不可能完成的項目，成功打破ASML的技術壟斷。
盡管國產光刻機與ASML的高端光刻機還存在較大的差距，但是我國科研人員正在努力的縮小差距，中國芯值得大家期待。