一則好消息傳來,國產半導體傳「捷報」,光刻機關鍵材料「突破」

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今年一進入年初就已經讓很多人感覺是不屈凡的一年,因為突如其來的疫情導致我們的生活發生了變化,企業復工受到影響,線下門店暫時停業,不過經過全國人的努力,如今我們已經克服難關,生活也逐漸恢復了正常的秩序。

華為再被「針對」,光刻機也遲遲未到

不過時間剛剛進入五月份之後,我國的科技行業又迎來了一個壞消息,那就是美國加強對華為的封鎖,企圖從晶片根源出擊,讓華為的發展受到限制,這對於華為的發展可謂是一次嚴重的阻礙。因為不管是中芯還是臺積電,在晶片制備方面都用到了美國技術和設備,所以也就代表著這些企業在特定情況下無法給華為代工晶片,造成了華為的晶片業務發展受挫。

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與此同時,中芯也還面臨著ASML的EUV光刻機遲遲沒有到位的尷尬局面,這也再一次證明了我國在半導體行業當中的地位,一直都是受人牽制。並且在光刻機領域當中我國也沒有什麼話語權,甚至當初ASML還曾放言表示,即便是給我們圖紙我們也造不出。其實ASML說的這句話並不是沒有道理,看不看得懂光刻機其中的精密構造是一方面,另一方面也是因為零部件的供應難度,因為ASML是各大科技巨頭幾十年的成果結晶,並不是一朝一夕就研發出來的設備,所以難度、精密程度可想而知。

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一則好消息傳來,國產半導體傳「捷報」

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而最近,我國在該領域中取得了一番成就,國內的南大光電在光刻膠方面實現了技術突破。光刻膠作為光刻機制作的關鍵材料之一,在晶片制備方面起到了重要的作用,而日本是該技術的壟斷國家,日本企業在光刻膠市場當中占了很大的市場份額,而美國也是緊跟日本身後,堪稱世界第二。

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相比之下,我國在光刻膠領域雖然之前也有成就,但一直都是不溫不火。而最近,根據南大光電透露,目前該公司的Arf光刻膠正在進行最後的客戶測試階段,最重要的是可以用於7nm的晶片制造上,這一點對於國產晶片制造行業來說無疑是一針「強心劑」,暫且不說能夠比肩日本、美國這種國家,但是想必也能夠不再受制於人,打破了「壟斷行為」。

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光刻膠和光刻機是什麼關係?

說到這裡,其實很多人都不理解光刻膠的含義與作用,它和高端精密的光刻機之間有什麼聯繫。簡單來說,光刻膠對於光刻機制造晶片的主要材料,因為光刻機在制備晶片的過程當中,需要將其設計的集成電路映射到制造晶片的矽片上,而光刻膠存在的意義就是避免光刻機在映射集成電路的時候對其造成損傷,所以光刻膠對於制備晶片的過程有著重要作用。

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不得不說,國產企業雖說實力沒有國外企業強悍,但也確實是「臥虎藏龍」,很多我們未曾聽說過的企業都在默默努力,打破技術壁壘從而實現發展,這一點還是十分令我們欣慰的。希望在未來的時間裡,我國能夠湧現出更多類似的企業,讓我國在半導體方面掌握更多的話語權,從而不再受人「欺負」。

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