事關國產7nm晶片，新消息正式傳來

就目前而言，7nm晶片可以說是先進制程晶片中，應用最為廣泛的工藝。數據顯示，臺積電7nm工藝貢獻的營收最多，高達40%，一年貢獻營收大約是280億美元。

由於7nm晶片應用廣泛，臺積電也明確表示，2022年續建的工廠中，其中兩家工廠都是為了提升7nm等晶片的產能。

當然，臺積電7nm晶片貢獻營收高，除了自身技術先進、產能高之外，也是因為在全球範圍內，目前僅有臺積電和三星能夠量產7nm制程的晶片。

但如今，情況不同了，因為國內廠商在7nm晶片上已經實現了多個突破。

例如，中芯國際早就完成了7nm晶片的研發工作，按照計劃已經進入試產階段；另外，中芯國際還推出了類似臺積電7nm晶片的N+1和N+2工藝。

根據中芯國際的說法，N+1和N+2工藝的晶片，其邏輯面積與臺積電7nm晶片相似，前者主打低功耗，已經小規模量產，後者主打高性能。

已官宣，事關國產7nm晶片，新消息正式傳來

最主要的，事關國產7nm晶片量產，目前有了最新的消息，而且還是官宣的。

都知道，生產制造7nm晶片，除了需要多層曝光工藝和DUV光刻機外，還需要光刻膠，其也是生產制造7nm晶片的必要原材料。

據悉，南大光電已經正式官宣了，其已經推出了ArF 光刻膠，主要用於生產14nm/7nm制程的晶片。

雖然目前還沒有實現 ArF 光刻膠未規模量產，但在2021年實現了少數出貨，今年將會積極拓展客戶，早日實現量產。

也就是說，從南大光電官宣的消息可知，其已經掌握了ArF 光刻膠的生產制造技術，並實現了出貨，

國產7nm晶片試產、量產已具備多個重要條件

據悉，要想生產制造7nm晶片，就需要多層曝光工藝、DUV光刻機、ArF 光刻膠以及先進的蝕刻機等。

就目前而言，國內已經具備了7nm晶片試產、量產的多個重要條件。

首先，中芯國際已經完整了7nm晶片研發任務，相當於有了7nm晶片生產制造的理論技術支撐。

另外，中芯國際已經用多層曝光工藝量產了14nm制程的晶片，並且，其在良品率上敢於同國際大廠相比較，這說明對多層曝光工藝也掌握得相當嫻熟了。

其次，設備方面，中芯國際已經與ASML簽訂了11億美元的光刻機採購協議，主要就是DUV光刻機，應該已經有部分DUV光刻機訂單交付中芯國際了。

對於中芯國際而言，試產、量產7nm晶片的主要理論、技術以及光刻機都有了。再加上，國產5nm蝕刻機已經用在臺積電5nm晶片生產線上。

也就是說，光刻機、蝕刻機以及ArF 光刻膠都有了，接下的事情可想而知。

最後，中芯國際在2018年官宣掌握了14nm晶片技術，結果次年就完成14nm晶片的試產工作，並很快進入了量產階段。

梁孟松在2020年底宣布了7nm晶片的研發任務已經完成，接下來就會進入試產階段，按照技術突破時間段來算，也不會遠了。

更何況，ASML等已經拿到了部分許可，並向中芯國際出貨了大量光刻機等半導體晶片生產制造所需要的設備和技術授權等。