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集微網消息（文/Yuna），據鳳凰網報導，最近Yuanta Securities投資咨詢有限公司爆料了英偉達新一代安培顯卡的相關信息，將採用7nm製作工藝，性能相較圖靈顯卡強50%。據專業人士計算分析，安培的效能將會是圖靈的3倍，英偉達的這次技術突破可以說是很大了。
據相關人士分析，安培顯卡很可能於今年8月的SIGGRAPH大會上發布。今年除英偉達外，ADM也將發布新一代顯卡，ADM將在新顯卡中加入光線追蹤硬件。而安培相對於圖靈來講除了7nm工藝外，架構上的重要變化之一也是光線追蹤性能的大幅提升。此外安培更是加強了光柵化處理能力，以更好應對3D場景。
出於供貨保障的考慮，安培顯卡將由台積電和三星同時代工，台積電是主力。目前市面上的高端顯卡性能最好的是圖靈，如果安培的效能真能達到圖靈的三倍，將成為新一代顯卡之王。
英偉達官方目前還未透露正式發布時間，有分析人員稱，安培上市後遊戲顯卡、遊戲本將迎來一波規模增長，其中受益最大的廠商將是60%的收入來自遊戲業務的MSI（微星），其次是30%以上的收入來自遊戲的華碩和技嘉。（校對/Vivian）